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      滾鍍鉻堆積速度很低是什么原因?
      - 2021-10-14-

        滾鍍鉻具有良好的化學穩定性,在堿、硫化物、硝酸和大多數有機酸中均不產生作用,但能溶于氫氯酸(如鹽酸)和熱的硫酸中。在可見光范圍內,滾鍍鉻的反射能力約為65%,介于銀(88%)和鎳(55%)之間,且因滾鍍鉻不變色,使用時能長久保持其反射能力而優于銀和鎳。

        由于鍍滾鍍鉻層具有優良的性能,廣泛用作防護一裝飾性鍍層體系的外表層和功能鍍層,在電鍍工業中一直占重要的地位。隨著科學技術的發展和人們對環境保護的日趨重視。那么滾鍍鉻堆積速度很低是什么原因?鍍滾鍍鉻廠家剖析如下:

        1、零件懸掛不恰當,彼此互相遮擋;

        2、陽極和陰極的間隔太大;

        3、因為計算表面積產生過錯和不鍍滾鍍鉻的地方絕緣欠好而使電流密度下降;

        4、電解液的溫度太高;

        5、硫酸含量太大;

        6、滾鍍鉻酐濃度太大;

        滾鍍鉻堆積速度很低的處理辦法,如下:

        1、改變懸掛的辦法;

        2、減小陽極跟陰極的間隔到30~35mm,較大為50mm。

        3、加大電流密度。涂2~3層透明漆膜來絕緣;

        4、下降電解液的溫度;

        5、根據剖析結果,利用碳酸鋇、氫氧化鋇或者滾鍍鉻酸鋇來使過剩的硫酸沉積。

        6、用比重計查看處理,如何處理滾鍍鉻堆積速度很低稀釋到正常濃度。


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