<pre id="rzdtz"></pre>

<menuitem id="rzdtz"></menuitem>

<font id="rzdtz"></font><menuitem id="rzdtz"><ruby id="rzdtz"><th id="rzdtz"></th></ruby></menuitem>
<menuitem id="rzdtz"></menuitem>
<font id="rzdtz"></font>

<delect id="rzdtz"><video id="rzdtz"></video></delect>

      <ins id="rzdtz"><video id="rzdtz"></video></ins><b id="rzdtz"><em id="rzdtz"></em></b>

      歡迎訪問常州市紫旭鋅鎳金屬制品有限公司!客戶對每件產品的放心和滿意是我們一生的追求,用我們的努力,解決您的煩惱!
      常州市紫旭鋅鎳金屬制品有限公司
      多年專注于五金機電設備銷售、維修、安裝方案解決
      全國咨詢熱線
      0510-86001668
      13861632369
      Banner
      首頁 > 行業知識 > 內容
      滾鍍鉻的組成成分有哪些
      - 2018-11-27-

       1.鉻酐

        鉻酐的水溶液是鉻酸,是鉻鍍層的惟一來源。實踐證明,鉻酐的濃度能夠在很寬的規模內變化。例如,當溫度在45~50℃,陰極電流密度10A/dm2時,鉻酐濃度在50~500g/L規模內變化,乃至高達800g/L時,均可取得亮光鍍鉻層。但這并不表示鉻酐濃度能夠隨意改動,一般生產中選用的鉻酐濃度為150~400g/L之間。鉻酐的濃度對鍍液的電導率起決定效果,在每一個溫度下都有一個相應于較高電導率的鉻酐濃度;鍍液溫度升高,電導率大值隨鉻酐濃度增加向稍高的方向移動。因此,單就電導率而言,宜選用鉻酐濃度較高的鍍鉻液。但選用高濃度鉻酸電解液時,由于隨工件帶出丟失嚴峻,一方面構成材料的無謂耗費,同時還對環境構成一定的污染。而低濃度鍍液對雜質金屬離子比較敏感,覆蓋能力較差。鉻酐濃度過高或過低都將使取得亮光鍍層的溫度和電流密度的規模變窄。含鉻酐濃度低的鍍液電流效率高,多用于鍍硬鉻。較濃的鍍液首要用于裝修電鍍,鍍液的功能盡管與鉻酐含量有關,首要的取決于鉻酐和硫酸的比值。

      2.催化劑

        除硫酸根外,氟化物、氟硅酸鹽、氟硼酸鹽以及這些陰離子的混合物常常作為鍍鉻的催化劑。當催化劑含量過低時,得不到鍍層或得到的鍍層很少,首要是棕色氧化物。若催化劑過量時,會構成覆蓋能力差、電流效率下降,并或許導致局部或全部沒有鍍層。目前應用較廣泛的催化劑為硫酸。硫酸的含量取決于鉻酐與硫酸的比值,一般控制在80~100:1,主張值為100:1。當硫酸根含量過高時,對膠體膜的溶解效果強,基體顯露的面積大,真實電流密度小,陰極極化小,得到的鍍層不均勻,有時發花,特別是凹處還或許顯露基體金屬。當生產上出現上述問題時,應根據化學分析的成果,在鍍液中增加適量的碳酸鋇,然后過濾去除生成的硫酸鋇沉淀即可。當硫酸根含量過低時,鍍層發灰粗糙,光澤性差。由于硫酸根離子含量太低,陰極表面上只有很少部位的膜被溶解,即成膜的速度大于溶解的速度,鉻的析出受阻或在局部地區放電長大,所以得到的鍍層粗糙。此時向鍍液中加入適量的硫酸即可。用含氟的陰離子(F-、SiF62-、BF4-)為催化劑時,其濃度為鉻酐含量的1.5%~4%,這類鍍液的優點是:鍍液的陰極電流效率高,鍍層硬度大,運用的電流密度較低,不只適用于掛鍍,也適用于滾鍍。中國運用較多的是氟硅酸根離子,它兼有活化鍍層表面的效果,在電流中斷或二次鍍鉻時,仍能得到亮光鍍層,也能用于滾鍍鉻。一般加入H2SiF4或Na2SiF6(或K2SiF6)作為SiF62-的首要來源。含SiF2-離子的鍍液,隨溫度升高,其工作規模較硫酸根離子的鍍液寬。該鍍液的缺陷是對工件、陽極、鍍槽的腐蝕性大,保護要求高,所以不或許完全替代含有硫酸根離子的鍍液。目前不少廠家將硫酸根離子和SiF62-混合運用,效果較好。

      3.三價鉻

        鍍鉻液中Cr6+離子在陰極還原發生Cr3+,與此同時在陽極上從頭被氧化,三價鉻濃度很快達成平衡,平衡濃度取決于陰、陽極面積比。Cr3+離子是陰極構成膠體膜的首要成分,只有當鍍液中含有一定量的Cr3+時,鉻的堆積才干正常進行。因此,新配制的鍍液必須采納恰當的措施確保含有一定量的Cr3+。

      ①選用大面積陰極進行電解處理。

      ②增加還原劑將Cr6+還原為Cr3+,能夠用作還原劑的有酒精、草酸、冰糖等,其中較為常用的是酒精(98%),用量為0.5mL/L。在加入酒精時,由于反應放熱,應邊攪拌邊加入,否則會使鉻酸濺出。加入酒精后,稍作電解,便可投入運用。

      ③增加一些老槽液。

        普通鍍鉻液中Cr3+的含量大約在2~5g/L,也有材料報導是鉻酸含量的1%~2%,三價鉻的允許含量與鍍液的類型、工藝以及鍍液中雜質的含量有關。當Cr3+濃度偏低時,相當于硫酸根離子的含量偏高時出現的現象。陰極膜不連續,分散能力差,并且只有在較高的電流密度下才發生鉻的堆積;當Cr3+濃度偏高時,相當于硫酸根離子的含量不足,陰極膜增厚,不只顯著降低鍍液的導電性,使槽電壓升高,并且會縮小取得亮光滾鍍鉻的電流密度規模,嚴峻時,只能發生粗糙、灰色的鍍層。當Cr3+的含量偏高時,也用小面積的陰極和大面積陽極,保持陽極電流密度為1~1.5A/dm2電解處理,處理時刻視Cr3+的含量而定,從數小時到數晝夜。鍍液溫度為50~60℃時,效果較好。

       



      地址:江蘇省常州市武進區橫林鎮林南村常州鴻麗電鍍有限公司 電話:0510-86001668

      在线观看91精品国产免费,在线观看AV无码免费,在线观看AV无码网址,在线观看a中文字幕,在线观看h视频的网站大全