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      如何抑制滾鍍鉻的鉻霧
      - 2018-11-27-

        新配制的鍍鉻液,電壓一般在3~5V,如濃度高時,電壓要低些。如果發現電壓大于前述值時,鍍液中可能含有雜質。Cl-來源于槽液補充水、零件清洗水等的帶入,或是鹽酸浸蝕后清洗不干凈帶入。Cl-過多會使鍍液分散能力與深度能力下降,鍍層發灰、粗糙、甚至出現花斑,還可引起基體及鉛陽極的腐蝕。消除過多的Cl-,可將鍍液加熱到70℃,大電流密度電解處理,使其在陽極上氧化為氯氣析出。但此法能耗大,效果也不十分理想;也可加入適量的碳酸銀,生成氯化銀沉淀,雖然此方法效果較好,但加入的碳酸銀還能與鉻酸反應生成鉻酸銀沉淀,不僅銀鹽消耗太多,又損失了鉻酐,增加了生產成本。較好的辦法是盡量減少Cl-帶入,因此補充槽液盡量使用去離子水,鍍前的弱浸蝕采用稀硫酸溶液。必須采用鹽酸時,則加強清洗。NO3-是有害的雜質,即使含量很低也會使鍍層發灰、失去光澤,并腐蝕鍍槽的鉛襯里和鉛陽極。除去NO3-的方法是:以每升電解液1A電流電解處理。若鍍液中NO3-含量較多時,先用BaCO3將鍍槽中的硫酸根除去,然后在65~80℃大電流電解處理,使硝酸根離子在陰極上還原為NH3而除去。

        在滾鍍鉻過程中,由于使用不溶性陽極,陰極電流效率又很低,致使大量氫氣和氧氣析出,當氣體逸出液面時,帶有大量的鉻酸,形成鉻霧造成嚴重的污染。目前抑制鉻霧的方法有兩種。

      ①浮體法將泡沫塑料碎塊或碎片放入鍍液的液面上,這些浮體可阻滯鉻霧的逸出,

      但零件出槽時,操作不方便。另外鉻酸氧化能力很強,對加入的碎塊有浸蝕作用,使分解產物在鍍液中積累,也會影響鍍層質量。

      ②加入泡沫抑制劑 泡沫抑制劑是一種表面活性劑,能降低鍍液的表面張力,產生穩定的泡沫層,覆蓋在鍍液表面。一般的表面活性劑在較高溫度和有強氧化劑存在下不穩定,但氟碳型表面活性劑在上述介質中能穩定存在。據報道,已用作鉻霧抑制劑的有多種,其中含有極性基團的脂肪長鏈有機化合物較好,如全氟辛烷基磺酸鈉鹽[CF3(CF2)6CF2SO3Na]是典型的一種,每升鍍液中加入量為0.2~0.5g/L時,即可達到良好的效果。中國已試制出全氟烷基醚磺酸鉀,簡稱F-53鉻霧抑制劑,在鍍鉻液中的添加量為0.04~0.06g/L。使用時,先將F-53用水調成糊狀,加水稀釋,煮沸溶解靜止片刻,轉入加熱至50~60℃的鍍鉻槽中,不能把不溶的F-53直接倒入鍍槽。

        鉻霧抑制劑在鍍液中形成的泡沫層,嚴密覆蓋在鍍液表面,當帶有鉻酸的氫氣和氧氣析出時,與表面的泡沫層相碰撞,無數微小的鉻酸霧結合成較大的霧滴,由于重力作用,當上升一定高度時將重回鍍液,而氫氣和氧氣繼續上升,直至離開液面,這樣實現氣體的排除和對鉻霧的有效抑制。

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